聚光科技于2015年分拆自身質譜業(yè)務成立子公司譜育科技。譜育科技已掌握多個質譜分析技術平臺，針對半導體行業(yè)檢測需求，推出一系列高精度檢測儀器及在線監(jiān)測系統(tǒng)，助力行業(yè)突破“卡脖子”關鍵技術。
半導體產品制造過程分為晶圓加工、氧化、光刻、刻蝕等八大步驟，涉及硅片、電子氣體、光掩模、光刻膠配套化學品等多類制造材料。統(tǒng)計數據顯示，半導體元件制造業(yè)中約50%的產率損失是由產品及材料制造流程中的微量雜質污染導致。
ITRS（國際半導體技術線路圖）提出，在超純水、電子化學品、電子特氣、晶圓制造環(huán)境等各個環(huán)節(jié)，均需進行嚴格的環(huán)境污染管控及污染物檢測；如何將污染降低到最小是半導體制程過程提升良率的難點。半導體器件生產過程中涉及的化學品種類繁多、測試元素種類眾多且檢測精度要求ppt量級，都對設備性能及操作人員的污染控制技術提出苛刻要求。另外，隨著半導體器件的尺寸不斷縮小、芯片中元件的密度不斷增加，生產過程中的污染控制也愈發(fā)嚴格。
業(yè)內人士介紹稱，ICP-MS技術尤其四極桿型ICP-MS技術具備極低的檢測限和快速多元素測定功能，已逐漸成為半導體行業(yè)污染分析實驗室的標準技術，在硅片表面雜質分析、超純水、超純試劑分析、高純氣體分析等多個方面應用廣泛。目前，半導體行業(yè)所使用的ICP-MS基本被美國及日本廠商壟斷。
公開資料顯示，譜育科技深耕高端科學儀器創(chuàng)新，在高端質譜領域積累了離子阱、四極桿、三重四極桿、飛行時間等多個質譜分析技術平臺。公司已建立半導體潔凈實驗室（100級），在2021年相繼推出了冷模式ICPMS以及三重四極桿ICPMS/MS,兩款設備可以實現亞ppt級別的超痕量金屬檢測，打破了海外廠商對超痕量金屬測試設備的壟斷。此外，公司針對14nm、28nm等高端制程半導體企業(yè)開發(fā)的實時監(jiān)測系統(tǒng)得到了各級集成電路基金的支持，其中一部分產品已經完成研發(fā)，處于樣板點建立階段。
基于譜育科技的研發(fā)實力，聚光科技于2020年成立半導體事業(yè)部，整合自身質譜、光譜、色譜等高精密檢測分析技術，以及各類進樣技術和軟件算法等綜合能力，推出一系列解決方案，覆蓋了痕量/超痕量金屬污染檢測、潔凈室AMC在線監(jiān)測、蝕刻劑近紅外分析、特氣監(jiān)測與預警等半導體全產業(yè)鏈精密檢測分析領域。
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